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干研磨濕研磨拋光的基本原理

來源：鴻信德機(jī)械發(fā)布時(shí)間：2020/2/28 13:41:31

干研磨濕研磨拋光的基本原理

干研磨,，主要是嵌入研磨平板表面的砂粒起切削作用。當(dāng)零件在研磨壓力的作用下,，在嵌有砂粒的研磨平板上相對滑動時(shí),，砂粒對被研磨表面的高點(diǎn)產(chǎn)生壓縮作用，由于內(nèi)應(yīng)力的增大而產(chǎn)生彈性變形,。當(dāng)應(yīng)力強(qiáng)過屈服點(diǎn)后,，便進(jìn)入塑性變形，晶粒和晶粒之間產(chǎn)生滑移,，隨著變形的增大,，到后來失去聯(lián)系而破裂，這便是所謂的研屑,。研磨輔料的存在,，改&善了切削條件，促進(jìn)了研磨質(zhì)量和效率的提高,。當(dāng)然,，在切削作用的同時(shí)，還存在著其它一些輔助作用,。如氧化膜的形成和去除,；砂粒擠壓產(chǎn)生的塑性變形作用；摩擦和切削所起的熱熔作用,，這些作用隨著磨料粒度的細(xì)化而增強(qiáng),。

濕研磨，由于不間斷的添加研磨劑,，不但有新砂粒參加研削,，而且砂粒的各個(gè)微刃變換切削，使各個(gè)鋒刃都發(fā)揮了作用,，同時(shí)冷卻潤滑條件良好,。隨著研磨劑中活化輔料的增加，化學(xué)作用和電化學(xué)作用也隨之增強(qiáng),。這是使之成為效率較高研磨方法的主要原因,。

拋光是一個(gè)_復(fù)雜的加工過程。研磨劑中品種繁多的活化物質(zhì)大量增加，化學(xué)作用_活躍頻繁,，磨料只起到破壞氧化膜的作用,。同時(shí)，某些磨料的本身便起著化學(xué)作用,。如氧化鉻中的游離硫磺蒸汽與金屬表面起化學(xué)作用,，形成了一層很薄的強(qiáng)度很低的硫化膜，它對硬脂酸和氧化鉻起吸附作用,。當(dāng)零件與研具相對滑動時(shí),，吸附在零件表面的氧化鉻將高點(diǎn)的硫化膜破壞，重新露出新鮮的金屬,，復(fù)而又形成硫化膜,，便這樣反復(fù)不斷的對零件的波峰進(jìn)行光整加工。

由于研具用極軟的材料制成,，砂粒在拋光過程中，往往存在于軟基體之中,，因而在一&定范圍內(nèi),，磨料的粒度對拋光效果影響不是很明顯。研磨平板 target="_blank">http://heixu.cn